题目：Bottom up nanomanufacturing via selective atomic layer deposition
报告人：陈蓉（华中科技大学威廉希尔教授）
时间：2019年11月29日下午15:00-16:30
地点：威廉希尔楼401报告厅
报告摘要
先进微纳制造方法是高精尖核心基础零部件的关键技术，其中自下而上的原子尺度单元搭建的工艺制程，被认为是纳米制造领域的“圣杯”。本报告将介绍选择性原子层沉积方法在微纳结构可控制备方面进展。包括利用自组装单分子层在衬底表面局部压印钝化方法，实现在指定区域图案化堆叠结构的沉积制备，研究了单分子层链长与配位基团种类对选择性影响；利用单分子层针孔结构，实现了双金属核壳结构纳米颗粒可控制备，壳层厚度调控达到单原子层精度，并应用于一氧化碳选择性氧化反应，研究了壳层厚度对表面反应物吸附特性与势垒影响。进一步，结合第一性原理与微反应动力学方法揭示了前驱体解离能和表面吸附能共同驱动的选择性沉积规律；通过前驱体配体活性，空间位阻选取，以及沉积温度，前驱体浓度等动力学因素调控，实现了纳米颗粒表面点缺陷选择性钝化，单原子制备，以及纳米颗粒特定晶面，棱边位点的定向包覆方法。
报告人简介
陈蓉，华中科技大学威廉希尔教授、博士生导师，柔性电子研究中心副主任。中国科学技术大学获得学士学位，美国斯坦福大学获得硕士、博士学位。回国前在美国英特尔研究院担任高级研究员。国家973青年项目、国家自然科学基金重点项目负责人。先后荣获湖北省技术发明一等奖、湖北省专利奖，德州仪器微电子领域女性领袖奖、半导体研究协会Simon Karecki奖等多项国内外奖项。
研究方向围绕着选择性原子层沉积方法、纳米颗粒改性、薄膜工艺与设备开发、柔性光电器件制备等展开，在Adv Mater, Angew. Chem. Int. Ed., Energ. Environ. Sci, ACS Nano, Chem. Mater.等国际知名期刊上发表论文90余篇，发明专利授权50余项（包含多项美国、欧盟专利）。在国际学术会议作大会报告或邀请报告30余次，主编撰写“十二五”重点出版物，受邀参与撰写了英文纳米系列丛书。担任包括第五届国际ALD应用大会暨首届亚洲ALD大会主席（2020）、国际ALD大会组委会委员、欧盟地平线计划非欧盟成员、IEEE senior member等。
